光刻胶是一种高分子材料，具有光敏性。它通常用于半导体制造和微电子技术中的微影技术，以制造微处理器、芯片和其他电子设备。

光刻胶的用途非常广泛，可以帮助制造出高精度的微小结构。在半导体制造中，光刻胶可以用于制造集成电路中的导线和晶体管等部件，以及制造微机电系统（MEMS）和纳米技术器件。此外，光刻胶还可以用于生物医学领域中的微流控系统和生物芯片的制造。

光刻胶的使用需要先将其涂覆在待加工的基板上，然后使用光刻机将所需的图案通过光掩模的方式转移到光刻胶上。在暴露后，光刻胶会发生化学反应，形成所需的图案结构。最后，通过化学蚀刻、离子束刻蚀等方式，将图案转移到基板上。

总的来说，光刻胶的用途非常广泛，不仅可以应用于电子、半导体等领域，还有着广泛的生物医学应用。随着技术的不断发展，光刻胶的应用前景也将会越来越广阔。